作為芯片生產製造環節當中的重要材料，光刻膠可以說是其核心之一。其能夠起到“將設計的圖像，自模板轉移到晶圓表面合適位置”的作用。基於此點，光刻膠材料的好壞，對於芯片產品的精密度、性能等都將產生重要的影響。
然而雖然我國也有着一些光刻膠生產企業，但其產能卻是主要集中在一些低端的光刻膠品種，像ArF這類的高端光刻膠原材料，我國此前可以說是100%依賴於進口。
眾所周知的是，今年以來，美國對於半導體領域的出口限制不斷縮緊，其中就涵蓋了光刻膠的出口。在這種情況下，我國的高端光刻膠想要繼續依賴於進口，無疑是不太現實的事了。
意識到了自身在高端半導體材料方面的不足後，我國也是開始了發力。不僅中科院宣布將光刻膠等半導體生產的重要材料列入科研清單中，將集中力量對此進行重點研發。且我國的晶瑞股份、上海新陽、南大光電等科技企業，也是在積極地對此進行專研，力求早日實現高端光刻膠材料的自產。
功夫不負有心人。近日，我國在高端光刻膠領域終於迎來了重大突破。根據11月13日的最新報道顯示，我國的南大光電材料有限公司宣布，其首條ArF光刻膠生產線，目前已經進入了正式地投產當中。在該項目全面達產之後，預計其年銷售額將達到10億元。
據悉，目前南大光電已經將這次的ArF光刻膠的樣品，送到了其一些客戶的手上進行測試。可以預見的是，隨着我國首條高端光刻機生產線的建成，南大光電今後也將收到更多的相關訂單。
此外，對於我國的芯片企業而言，這無疑算得上是一大利好消息。以中芯國際為例，由於缺乏光端光刻膠、來自ASML的EUV光刻機遲遲不到貨等因素的影響，其在芯片領域內的發展受到了很大的限制。
而隨着我國自身在高端光刻膠方面實現了突破，眼下自產就快要實現了。這對於中芯國際而言，無疑是解決了芯片發展的一大難題。由於ArF光刻膠對28nm-7nm工藝的芯片有着關鍵作用，可以說南大光電此次的突破，為我國的芯片企業研發製造高精密度的芯片提供了一層保障。
說到這裡，有很多朋友會好奇，隨着我國此次光刻膠材料的突破，我國的光刻膠是否能夠在國際市場當中佔據更多的份額呢?
根據相關數據顯示，在2019年當中，我國光刻膠本土企業的銷售總額為70億元，佔據了全球市場10%的份額，這樣一看似乎是一個不錯的成績了。
但仔細分析後就會發現，在高端光刻膠的市場當中，有95%的份額都集中站我在美國和日本的企業手上。值得一提的是，日本的信越化學、東京日化等企業稱得上是行業巨頭，其幾乎壟斷了90%的高端光刻膠市場。
而伴隨着我國高端光刻膠的突破，相信肯定會對這些美企和日企在光刻膠市場的壟斷地位，造成一定程度的衝擊。
此外，除了南大光電以外，我國別的科技企業在這方面也是處於持續發力之中。根據9月下旬的報道顯示，晶瑞股份耗費了7523萬元的巨資，從韓國的半導體生產商SK海力士手上，購進了一台ASML的二手光刻機設備，將把其用於高端光刻膠材料的生產之中。
相信在未來，我國還將有更多的企業實現高端光刻膠材料的市場，為我國芯片發展提供保障的同時，也使得國產高端光刻膠走上國際市場的舞台。
