国产高端光刻胶迎突破,可用于7nm芯片制造,能打破美日垄断吗? 我国首条高端光刻机生产线的建成

2020 年 11 月 15 日11:28:45 发表评论 16 views

 

  作为芯片生产制造环节当中的重要材料,光刻胶可以说是其核心之一。其能够起到“将设计的图像,自模板转移到晶圆表面合适位置”的作用。基于此点,光刻胶材料的好坏,对于芯片产品的精密度、性能等都将产生重要的影响。

  然而虽然我国也有着一些光刻胶生产企业,但其产能却是主要集中在一些低端的光刻胶品种,像ArF这类的高端光刻胶原材料,我国此前可以说是100%依赖于进口。

 

  众所周知的是,今年以来,美国对于半导体领域的出口限制不断缩紧,其中就涵盖了光刻胶的出口。在这种情况下,我国的高端光刻胶想要继续依赖于进口,无疑是不太现实的事了。

  意识到了自身在高端半导体材料方面的不足后,我国也是开始了发力。不仅中科院宣布将光刻胶等半导体生产的重要材料列入科研清单中,将集中力量对此进行重点研发。且我国的晶瑞股份、上海新阳、南大光电等科技企业,也是在积极地对此进行专研,力求早日实现高端光刻胶材料的自产。

 

  功夫不负有心人。近日,我国在高端光刻胶领域终于迎来了重大突破。根据11月13日的最新报道显示,我国的南大光电材料有限公司宣布,其首条ArF光刻胶生产线,目前已经进入了正式地投产当中。在该项目全面达产之后,预计其年销售额将达到10亿元。

  据悉,目前南大光电已经将这次的ArF光刻胶的样品,送到了其一些客户的手上进行测试。可以预见的是,随着我国首条高端光刻机生产线的建成,南大光电今后也将收到更多的相关订单。

 

  此外,对于我国的芯片企业而言,这无疑算得上是一大利好消息。以中芯国际为例,由于缺乏光端光刻胶、来自ASML的EUV光刻机迟迟不到货等因素的影响,其在芯片领域内的发展受到了很大的限制。

  而随着我国自身在高端光刻胶方面实现了突破,眼下自产就快要实现了。这对于中芯国际而言,无疑是解决了芯片发展的一大难题。由于ArF光刻胶对28nm-7nm工艺的芯片有着关键作用,可以说南大光电此次的突破,为我国的芯片企业研发制造高精密度的芯片提供了一层保障。

 

  说到这里,有很多朋友会好奇,随着我国此次光刻胶材料的突破,我国的光刻胶是否能够在国际市场当中占据更多的份额呢?

  根据相关数据显示,在2019年当中,我国光刻胶本土企业的销售总额为70亿元,占据了全球市场10%的份额,这样一看似乎是一个不错的成绩了。

  但仔细分析后就会发现,在高端光刻胶的市场当中,有95%的份额都集中站我在美国和日本的企业手上。值得一提的是,日本的信越化学、东京日化等企业称得上是行业巨头,其几乎垄断了90%的高端光刻胶市场。

 

  而伴随着我国高端光刻胶的突破,相信肯定会对这些美企和日企在光刻胶市场的垄断地位,造成一定程度的冲击。

  此外,除了南大光电以外,我国别的科技企业在这方面也是处于持续发力之中。根据9月下旬的报道显示,晶瑞股份耗费了7523万元的巨资,从韩国的半导体生产商SK海力士手上,购进了一台ASML的二手光刻机设备,将把其用于高端光刻胶材料的生产之中。

 

  相信在未来,我国还将有更多的企业实现高端光刻胶材料的市场,为我国芯片发展提供保障的同时,也使得国产高端光刻胶走上国际市场的舞台。

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